设备型号：EXPLORED
用途：主要用于Ti、Cr、Au、Pt等金属薄膜的溅射沉积。
技术指标：直流电源功率：0-600W；
均匀性和重复性：在6 inch衬底厚度均匀性优于±5%，重复性优于±3%；
样品尺寸：1片6 inch，向下兼容；
基底温度：0℃-800℃可调；
真空室漏率：5E-5Torr.L/s ；
极限真空：5E-7Torr。
